@inproceedings{Samuel2009Filmesb,

title = {An\'{a}lise Segundo Modelo F-S e Experimental da Resistividade de Filmes Finos de Alum\'{i}nio Obtidos por Evapora\c{c}\~{a}o Resistiva por Feixe de El\'{e}trons.},

author = {Samuel Machado Leal Silva and Carlos Luiz Ferreira},

url = {https://www.sige.ita.br/edicoes-anteriores/2009/st/P_21.pdf},

year  = {2009},

date = {2009-01-01},

booktitle = {Simp\'{o}sio de Aplica\c{c}\~{o}es Operacionais em \'{A}reas de Defesa 2009 (SIGE2009)},

abstract = {A resistividade de filmes finos de Alum\'{i}nio foi simulada para diferentes coeficientes de especularidade, segundo modelo de Fucks-Sondheimer (modelo F-S). A simula\c{c}\~{a}o foi realizada para espessuras de 250 a 3000r{A}, coeficiente de efeito de tamanho (K) maior do que um e resistividade volum\'{e}trica 2,65x10-8 Ω.m. Filmes de alum\'{i}nio foram depositados por evapora\c{c}\~{a}o resistiva por feixe de el\'{e}trons com taxas de 0,5r{A}/s e 5r{A}/s e espessuras dentro da faixa simulada. As curvas experimental e te\'{o}rica da resistividade em fun\c{c}\~{a}o da espessura foram comparadas, com resultados satisfat\'{o}rios. Os filmes obtidos com taxa de 0,5r{A}/s apresentaram maior resistividade do que os filmes depositados com 5r{A}/s.},

keywords = {Evapora\c{c}\~{a}o Resistiva, filmes finos, Modelo Fucks-Sondheimer, Resistividade},

pubstate = {published},

tppubtype = {inproceedings}

}

@inproceedings{VLSoethe2008filmesb,

title = {Materiais Absorvedores de Radia\c{c}\~{a}o Eletromagn\'{e}tica baseados em Filmes finos},

author = {VLSoethe and ELNohara and LCFontana and MCRezende},

url = {https://www.sige.ita.br/edicoes-anteriores/2008/st/15_2.pdf},

year  = {2008},

date = {2008-01-01},

booktitle = {Simp\'{o}sio de Aplica\c{c}\~{o}es Operacionais em \'{A}reas de Defesa 2008 (SIGE2008)},

abstract = {Filmes finos met\'{a}licos com espessuras da ordem de centenas de nan\^{o}metros foram depositados sobre substrato de politereftalato de etileno por meio da t\'{e}cnica de Triodo Magnetron Sputtering (TMS), com o objetivo de avaliar sua efici\^{e}ncia quanto \`{a} atenua\c{c}\~{a}o da energia da onda Verificou-se que a atenua\c{c}\~{a}o eletromagn\'{e}tica apresentada por est\'{a} diretamente recobrimentos relacionada com a espessura e com o material que constitui o recobrimento. A amplitude e a freq\"{u}\^{e}ncia de m\'{a}xima atenua\c{c}\~{a}o destes recobrimentos varia de acordo com a espessura e material do filme, atingindo valores de at\'{e} 90% em freq\"{u}\^{e}ncias especificas. Palavras-chavesfilmes finos, Triodo Magnetron Sputtering, MARE.},

keywords = {filmes finos, MARE, Triodo Magnetron Sputtering},

pubstate = {published},

tppubtype = {inproceedings}

}

@inproceedings{Daniel2007b,

title = {Estudo das Intera\c{c}\~{o}es e Espalhamentos de F\'{o}tons em Microondas na Faixa de 8 a 12 GHz em Materiais Filmes Finos com Diferentes Permeabilidades},

author = {Daniel Basso Ferreira and In\'{a}cio Malmonge Martin and Jos\'{e} At\'{i}lio Fritz Fidel Rocco and Mirabel Cerqueira Rezende},

url = {https://www.sige.ita.br/edicoes-anteriores/2007/st/GE_22.pdf},

year  = {2007},

date = {2007-01-01},

urldate = {2007-01-01},

booktitle = {Estudo das Intera\c{c}\~{o}es e Espalhamentos de F\'{o}tons em Microondas na Faixa de 8 a 12 GHz em Materiais Filmes Finos com Diferentes Permeabilidades},

abstract = {O estudo de materiais sob a forma de filmes finos absorvedores de radia\c{c}\~{a}o na faixa de microondas consiste em estabelecer um modelo te\'{o}rico qualitativo para a absor\c{c}\~{a}o e em comprovar o modelo com os resultados de ensaios de absor\c{c}\~{a}o de f\'{o}tons em microondas na faixa de 8 a 12 GHz para estes filmes finos carregados com nanopart\'{i}culas de \'{o}xido de ferro. Palavras-chaves ( Filmes finos, nanopart\'{i}culas, ferrites, absorvedores, microondas.},

keywords = {absorvedores, ferrites, filmes finos, microondas, nanopart\'{i}culas},

pubstate = {published},

tppubtype = {inproceedings}

}