@inproceedings{Samuel2009Filmesb,

title = {An\'{a}lise Segundo Modelo F-S e Experimental da Resistividade de Filmes Finos de Alum\'{i}nio Obtidos por Evapora\c{c}\~{a}o Resistiva por Feixe de El\'{e}trons.},

author = {Samuel Machado Leal Silva and Carlos Luiz Ferreira},

url = {https://www.sige.ita.br/edicoes-anteriores/2009/st/P_21.pdf},

year  = {2009},

date = {2009-01-01},

booktitle = {Simp\'{o}sio de Aplica\c{c}\~{o}es Operacionais em \'{A}reas de Defesa 2009 (SIGE2009)},

abstract = {A resistividade de filmes finos de Alum\'{i}nio foi simulada para diferentes coeficientes de especularidade, segundo modelo de Fucks-Sondheimer (modelo F-S). A simula\c{c}\~{a}o foi realizada para espessuras de 250 a 3000r{A}, coeficiente de efeito de tamanho (K) maior do que um e resistividade volum\'{e}trica 2,65x10-8 Ω.m. Filmes de alum\'{i}nio foram depositados por evapora\c{c}\~{a}o resistiva por feixe de el\'{e}trons com taxas de 0,5r{A}/s e 5r{A}/s e espessuras dentro da faixa simulada. As curvas experimental e te\'{o}rica da resistividade em fun\c{c}\~{a}o da espessura foram comparadas, com resultados satisfat\'{o}rios. Os filmes obtidos com taxa de 0,5r{A}/s apresentaram maior resistividade do que os filmes depositados com 5r{A}/s.},

keywords = {Evapora\c{c}\~{a}o Resistiva, filmes finos, Modelo Fucks-Sondheimer, Resistividade},

pubstate = {published},

tppubtype = {inproceedings}

}